Hinews / 하이뉴스

전체뉴스 주요뉴스 로그인
facebook twitter naver youtube
  • 건강·질병
    • 전체
    • 건강일반
    • 질병/의학
    • 뷰티/푸드
    • 출산/육아
    • 반려동물
  • 보건·의료
    • 전체
    • 보건정책/의료
    • 학회/세미나
  • 제약·바이오
    • 전체
    • 제약산업/유통
    • 바이오/헬스케어
  • 기획·연재
  • 칼럼·인터뷰
    • 전체
    • 전문가칼럼
    • 전문의기고
    • 오피니언
    • HI인터뷰
  • 카드·영상뉴스
    • 전체
    • 카드뉴스
    • 영상뉴스
  • 경제산업
  • MEDI·K
구독신청 광고문의 매체소개 이용약관

검색 ( 총 : 1건)

기사목록 보기 형태

 제목형  요약형  포토형
  • 삼성전자·존스홉킨스대, 차세대 펠티어 냉각 기술로 ‘2025 R&D 어워드’ 수상

    삼성전자와 존스홉킨스대학교 응용물리학연구소(Johns Hopkins APL)가 산학 협력을 통해 개발한 ‘차세대 펠티어 냉각 기술’이 미국 R&D 월드 매거진이 주관하는 ‘2025 R&D 100 어워드(R&D 100 Awards)’에서 100대 혁신 기술로 선정됐다.1963년 제정된 R&D 100 어워드는 매년 과학기술 발전에 기여한 세계 100대 혁신 기술을 뽑는 권위 있는 상으로, ‘산학 혁신의 오스카상’, ‘공학의 노벨상’으로 불린다.이번 수상은 삼성리서치 라이프솔루션팀과 존스홉킨스대 연구진이 세계 최초로 나노 공학 기술을 활용해 ‘고성능 박막 펠티어 반도체 소자’를 개발하고, 이를 적용한 고성능 펠티어 냉장고 실증에 성공한 점이 높게 평가됐다.또한 연

    전자·테크 송소라 하이뉴스(Hinews) 기자 2025.08.25 09:47
더보기 
Hinews
facebook twitter naver youtube
회원서비스
  • 로그인
  • 회원가입
  • 아이디찾기
  • 비밀번호찾기
  • 구독신청
  • 불편신고
  • 독자투고
서울시 영등포구 국제금융로2길 17, 4층 421호 (여의도동, 시티플라자) 대표전화 : 02-313-2382 팩스 : 02-6455-2389
매체소개 이용약관 개인정보처리방침 PC버전
© Hinews. All rights reserved.